Page 104 - SDMD CNKT va CNTT trong tien trinh CNH_HDH DBSCL

Hình 5.6 thể hiện sự ảnh hưởng của mật độ dòng điện đến hiệu suất
dòng điện của quá trình mạ crom cho các dung dịch mạ khác nhau. Dù các
dung dịch mạ có thành phần hóa học khác nhau thì khi tăng mật độ dòng điện,
hiệu suất dòng điện cũng tăng lên. Tùy vào thành phần hóa học của dung dịch
mạ mà hiệu suất dòng điện có thể tăng lên nhiều hoặc ít. Khi so sánh giữa
dung dịch mạ chứa Cr(VI) và Cr(III), có thể thấy rằng dung dịch mạ chứa
Cr(III) có thể cho hiệu suất dòng điện cao hơn khi mật độ dòng điện được sử
2
dụng vào khoảng 20 A/dm . Tuy nhiên, dung dịch mạ chứa Cr(VI) thể hiện
tính ổn định của hiệu suất dòng điện cao hơn khi mật độ dòng điện tăng từ 15
2
đến 50 A/dm . Điều này có nghĩa là mạ crom trong dung dịch mạ Cr(VI) ít bị
ảnh hưởng bởi sự thay đổi các nồng độ của các chất trong dung dịch mạ cũng
như các điều kiện mạ. Mạ Cr(VI) rõ ràng là dễ thao tác hơn so với mạ Cr(III).

Hiệu suất dòng điện (%)

Lực ion dung dịch mạ

Hình 5.6. Ảnh hưởng của mật độ dòng điện đến hiệu suất dòng điện khi tiến hành
mạ crom từ các dung dịch mạ khác nhau: (1,2) dung dịch mạ chứa crom sunfat với
chất phụ gia, (3,4) dung dịch mạ chứa crom sunfat cơ bản, (3,4) dung dịch mạ chứa
o
o
o
Cr(VI) . Nhiệt độ dung dịch mạ (1,3) là 40 C, (2,4) là 35 C, (5) là 50 C
(Nguồn: Protsenko & Danilov, 2014)
Hình 5.7 miêu tả hình thái bề mặt của lớp mạ Cr-C được phủ trên bề
mặt của vật liệu nền của SS304 khi sử dụng các mật độ dòng điện khác nhau.
2
Đối với lớp mạ Cr-C được mạ với mật độ dòng điện tại 10 A/dm , trên bề mặt
lớp mạ xuất hiện một vài vết nứt nhỏ và mờ. Khi tăng mật độ dòng điện lên
2
đến 30 A/dm , các vết nứt và các lỗ rỗng bắt đầu lớn lên và xuất hiện nhiều
hơn trên bề mặt lớp mạ. Đối với lớp mạ Cr-C được mạ với mật độ dòng điện
2
50 A/dm , các vết nứt và lỗ rỗng càng trở nên rõ ràng hơn trên bề mặt. Điều

90